X射线荧光(XRF)是一种非破坏性技术,用于量化材料的元素组成并测量薄膜厚度和成分。 X射线用于激发样品,导致X射线的发射具有存在的元素的特征能量。
XRF是 智能图表 并测量散装材料和薄膜的成分和杂质。
XRF 能够检测 BU 中浓度从 ppm 到 100% 的元素。 此外,使用该技术可以测量铜。 由于使用 X 射线来激发样品,因此可以实现从小于一纳米到几毫米的分析深度,具体取决于材料。 通过使用适当的参考标准或在标准不可用时使用基本参数 (FP),XRF 可以准确量化 元素组成 大多数材料。
有五个 XRF 系统可用:四个 波长色散仪 (WDXRF) 和能量色散仪 (EDXRF), 主要区别在于分离和测量 X 射线的方式。 WDXRF 具有非常好的能量分辨率,可减少光谱重叠并改善背景强度。 EDXRF 具有更高的信号吞吐量,可实现小区域分析或映射。
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