Ellipsometry是一种功能强大的分析工具,用于表征许多材料中的薄膜,包括半导体,介电薄膜,金属和聚合物。 它也称为光谱椭偏仪(SE),它是一种非接触式非破坏性光学技术,可测量与样品相互作用后反射光的偏振变化。 极化的这种变化与材料特性有关。
椭偏法主要用于测量薄膜厚度,折射率(n)和消光系数(k),但也可以用于研究影响光偏振的其他属性,例如粗糙度,光学各向异性(双折射),晶体性质,组成,光学带隙和热膨胀。 请注意,此技术不会直接测量这些参数。 为了提取有关薄膜的有用信息,构建了一个描述样品光学参数的模型。 然后,拟合未知参数以获得理论响应和实验数据之间的最佳匹配。
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