氢前向散射光谱(HFS)

氢前向散射光谱法(HFS)是一种离子散射技术,用于定量测定薄膜中氢的垂直分布。 在这个过程中,他2+ 离子以掠射角撞击样品表面,将氢原子从样品中敲出,然后使用固态检测器进行分析。

由于氢对薄膜物理或电气特性的潜在影响,测量薄膜内氢含量的组成和垂直分布的能力可能至关重要。 其他技术,如俄歇电子能谱 (AES)、能量色散 X 射线能谱 (EDS) 和 X 射线光电子能谱 (XPS),无法检测氢; 虽然 SIMS 可以测量氢,但通过 SIMS 对氢进行量化可能很困难并且需要标准。 这使得 HFS 成为一种独特的薄膜分析技术。

很少有实验室能够提供 HFS。 EAG 的经验可实现快速的周转时间、准确的数据和个人对个人的服务,确保您了解结果对您的材料和流程意味着什么。

HFS的理想用途

  • 薄膜的氢分析

我们的强项

  • 非破坏性H成分测量
  • 整个晶圆分析(最高300 mm)
  • 导体和绝缘体分析

限制

  • 大分析区域(1×7 mm)
  • 仅限于薄膜 (<0.4 μm) 的有用信息
  • 深度分辨率300Å

HFS技术规格

  • 检测到信号: 向前散射的H原子
  • 检测到的元素: 1H,2H
  • 检测限: 0.1-0.5 at%
  • 深度分辨率: 〜300Å
  • 成像/制图: 没有
  • 横向分辨率/探头尺寸: ≥1×7 毫米

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