清洁效果评估

应用笔记

讨论

删除 表面污染 是所有清洁过程的共同目标。 不幸的是,所有清洁步骤都不是同样有效,并且某些过程实际上可能留下额外的污染物。 X射线光电子能谱(XPS)表面分析 适合表征清洁过程的工具。 XPS能够量化除氢和氦之外的所有元素物质的浓度,因此可以根据清洁过程监测污染物去除的效率。

下面显示的光谱来自几个清洁步骤之前和之后的玻璃样品。 用于钠(Na)和碳(C)的峰在清洁后强度降低,而来自玻璃基板(例如硅和氧)的峰随着表面变得更清洁而相对强度增加。 该表显示了清洁前后元素的浓度。 第一步降低Na的水平,但增加C浓度。 随后的工艺步骤去除了大部分C,留下了更清洁的玻璃表面。

评估清洁效果

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