オージェ電子分光法(AES、オージェ)

オージェ電子分光法(AESまたはオージェ)は、励起源として高エネルギー電子ビームを利用する表面に敏感な分析技術です。 電子ビームによって励起された原子は、その後緩和し、「オージェ」電子の放出につながる可能性があります。 放出されたオージェ電子の運動エネルギーは、サンプルの上部3〜10nm内に存在する元素の特徴です。

オージェ電子分光法SMARTチャート

AESは私たちの一部です スマートチャートシリーズ。 さらに、スポットサイズの範囲により、優れた表面感度と小さなスポットサイズを提供します。

この手法は、1923年にフランスの物理学者ピエールヴィクターオージェにちなんで名付けられました。しかし、今ではほとんどの人がオーストリアスウェーデンの物理学者を認識しています リーズマイトナー as the person that first discovered that the emission of electrons from surfaces of atoms can create energy signatures.

主なアプリケーション

With a small electron beam diameter, AES is very useful when investing particles and small areas, as it has the ability to investigate sizes smaller than 25 nm. It also provides a good alternative when thin films are too thin for EDS分析. AES can sample thin film stacks to a depth of a micron or more​ with sputtering.

Above all, AES is a semi-quantitative method, meaning that we typically provide results based on standard sensitivity factors provided by the equipment manufacturer. Where more accurate results are required, these can be obtained by looking at known compositions and comparing them to the unknown material.

電子ビームは、さまざまなサイズの領域でスキャンすることも、関心のある特定の表面の特徴に直接焦点を合わせることができます。 電子ビームを10〜20 nmの直径に集束させるこの機能により、 オージェ電子分光法は、小さな表面形状の元素分析に非常に便利なツールです。 同様に考慮されるかもしれない他の技術は (例:XPS  TXRF。 オージェ電子分光法をスパッタリングイオンガンと組み合わせて使用​​すると、組成深度プロファイリングも実行できます。

オージェ電子分光法の理想的な使用法

  • 不良解析
  • 粒子分析
  • 表面分析
  • 小面積深度プロファイリング
  • 薄膜分析用組成物
  • 冶金分析

強み

  • まず、小面積分析(最小20 nmまで)
  • 第二に、優れた表面感度(3-10 nmの情報深度)
  • 第三に、深度の解像度が良い

制限事項

  • 最適な定量化に必要な基準
  • 絶縁体は難しいことがあります
  • サンプルは真空適合でなければなりません
  • 検出感度は通常0.1-1at%

オージェ電子分光法の技術仕様

  • 信号が検出されました:表面近くの原子からのオージェ電子
  • 検出された要素:Li-U
  • 検出限界:0.1-1 at%; サブ単層
  • 深さの決断:2〜20 nm(深度プロファイリングモード)
  • イメージング/マッピング: はい
  • 横方向の解像度/プローブサイズ: ≥10 nm

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