走査型電子顕微鏡(SEM)

走査型電子顕微鏡(SEM)は、試料表面および表面近傍の高解像度および高被写界深度の画像を提供します。  SEMは非常に詳細な画像をすばやく提供できるため、最も広く使用されている分析ツールのXNUMXつです。 補助的な エネルギー分散型X線分光分析(EDS) 検出器と組み合わせることで、SEMはほぼ全周期表の元素同定も提供します。

EAGは、光学顕微鏡で十分な画像解像度または十分に高い倍率を提供できない場合にSEM分析を使用します。 SEMは、詳細な表面トポグラフィ画像の作成にも優れています。 アプリケーションには、故障分析、寸法分析、プロセス特性評価、リバースエンジニアリング、および粒子識別が含まれます。

EAGの専門知識と豊富な経験は、私たちがサービスを提供する業界と顧客にとって非常に貴重です。 person to person のサービスにより、結果とその意味の良好なコミュニケーションが保証されます。多くの場合、分析中に顧客が立ち会い、データ、イメージング、および情報の即時共有を可能にします。

SEMの理想的な使用法

  • 高解像度表面トポグラフィー画像
  • 元素微量分析と粒子のキャラクタリゼーション

強み

  • 高速高解像度イメージング
  • 存在する要素の迅速な識別
  • 優れた被写界深度(〜100×光学顕微鏡のそれ)
  • 他の多くの分析手法をサポートする多用途プラットフォーム
  • 低真空モードで絶縁および水和サンプルのイメージングが可能

制限事項

  • コントラストのために平面サンプルをエッチングする必要があるかもしれません
  • サイズ制限によりサンプルの切断が必要になる場合があります
  • 究極の分解能は、サンプル化学と電子ビームの安定性の強い関数です。
  • UHV表面分析が必要な場合、SEMによる表面炭素の可能性のある導入を避けるために最初に行われるべきです。

SEM技術仕様

  • 検出された信号: 二次および後方散乱電子およびX線、光(カソードルミネッセンス)および電子ビーム誘起電流(EBIC)
  • 検出された要素 BU(EDSモード)
  • 検出限界: 0.1-1 at%
  • EDSの化学物質の深さの決断: 0.1-3 µm
  • イメージング/マッピング: はい
  • 側面の決断/調査のサイズ: 10-30Å

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