La réflectivité des rayons X (XRR), une technique liée à la diffraction des rayons X (XRD), est en train de devenir un outil largement utilisé pour la caractérisation des structures à couches minces et multicouches. La diffusion des rayons X à de très petits angles de diffraction permet de caractériser les profils de densité électronique de couches minces jusqu'à quelques dizaines de d'épaisseur. À l'aide d'une simulation du modèle de réflectivité, une mesure très précise de l'épaisseur, de la rugosité de l'interface et de la densité de la couche pour les couches cristallines ou amorphes Films minces et des multicouches peuvent être obtenues. Aucune connaissance ou hypothèse préalable concernant les propriétés optiques des films n'est requise, contrairement à l'ellipsométrie optique
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